Udviklingssamarbejde og skræddersyede avancerede coatings
Accelerér innovationen gennem strategiske forsknings- og udviklingspartnerskaber
Standard hyldevare-coatings kommer ofte til kort, når de udsættes for ekstreme miljøkrav, meget aggressive kemiske miljøer eller ultrapræcise dimensionelle specifikationer.
Hos Teknologisk Institut påfører vi ikke bare coatings - vi laver udviklingssamarbejder om overfladeløsninger. Ved hjælp af vores topmoderne Molecular Vapor Deposition (MVD)-platforme udvikler og validerer vi den næste generation af beskyttende overfladebehandlinger.
Vores spor for fælles udvikling
Vi organiserer vores fælles udviklingsprojekter omkring tre tekniske hovedspor for systematisk at imødekomme jeres unikke krav til ydeevne:
1. Skræddersyet integration og validering
Mål: At skræddersy deponeringsbetingelser og precursor-kemi specifikt til jeres komplekse komponenter, sensorer eller optiske overflader.
Fokus: At udføre stringente test af langsigtede driftstolerancer og miljømæssig holdbarhed under realistiske forhold. Vi udsætter vores coatings for accelereret termisk, kemisk og fugtbetinget ældning for at sikre pålideligheden.
2. pH-resistens
Mål: At erstatte standardcoatings med innovative kandidatmaterialer, der kan modstå ekstremt sure eller basiske miljøer.
Fokus: Systematisk testning af precursor-kemi, tilpassede opskrifter og gasfase-deponeringsbetingelser for at opbygge robuste kemiske barrierer, der kan modstå ekstreme pH-skift.
3. Udvidelse af egenskaber
Mål: At tilpasse og skræddersy coatingen for at udvide overfladens ydeevne ud over de traditionelle hydrofobe og oleofobe grænser.
Fokus: Udvikling af alternative overfladefunktionaliteter på nanoskala, herunder specialiserede coatings med høj adhæsion/binding, hydrofile lag samt coatings til smalle kanaler eller komplekse geometrier.
Hvorfor samarbejde med Teknologisk Institut?
- Avanceret udstyr til gasfasedeponering (MVD): Vores faciliteter gør det muligt for os at coate komplekse 3D-strukturer, interne geometrier og huller/porer med høje aspektforhold fuldstændig ensartet, uden brug af opløsningsmidler eller ændring af dimensioner. Lavtemperatur Atomic Layer Deposition (ALD) kan anvendes til påføring af visse lag.
- Fra laboratorieskala til serieproduktion: Drag fordel af et ISO 9001:2015-certificeret produktionsmiljø, som sikrer, at de resultater, der opnås i vores fælles udviklingsfase, problemfrit kan opskaleres til reproducerbar serieproduktion af høj kvalitet.
- Uovertruffent karakteriserings-økosystem: Vi kobler udviklingen med overfladeanalyse i verdensklasse (herunder FIB-SEM, TOF-SIMS og SEM-EDX) for at inspicere og forstå grænsefladerne mellem coating og substrat helt ned på nanometerniveau.
Klar til at udvikle jeres næste overflade?
Lad os tage en snak om, hvordan vi kan tilpasse vores coatingteknologier til jeres specifikke krav - kontakt sektionsleder og coatingspecialist, Susan Cooper, i dag.